常壓電漿表面處理裝置

• 增加基板最初洗淨、精密洗淨效率的提升及密著性的提升
• 由於不發塵最適合為提升次工程 ( ITO、PI、光阻塗佈製程前) 高附著性表面改質
• 因處理後表面均一化，可加快顯影液、蝕刻藥液、去光阻液等的初期反應，有效提升處理一致性及處理速度
• 非接觸式低溫處理清潔，對產品表面不會造成傷害 (與UV、EUV相同程度)，故對裝置無不良影響
• 安裝在各製程間，可有效去除表面有機污染層
• 處理過程中，對於基板表面不會產生電位及靜電
• 無靜電放電 (處理後的ESD值為0~50V以內，由於正、負離子的產生，故處理前不需要負離子空氣淨化器裝置，使基板為不帶電)

規格

• G5基板尺寸1100mm版寬，機台參考外觀尺寸 (L 1500mm *W 620mm *H 750mm) ; 可視客戶各世代玻璃尺寸對應。