化學品>特用化學品NF3三氟化氮(NF3)是鹵化氮中最穩定的,可在鈣的催化下由氨氣與氟氣製成。它可以用作氟化氫雷射器的氧化劑,半導體、液晶和薄膜太陽能電池生產過程中的蝕刻劑。 產品說明產品聯絡人其他相關產品產品說明 三氟化氮(NF3)是一種優良的等離子蝕刻氣體,具有優異的蝕刻速率和選擇性。 在蝕刻物表面不留任何殘留物,是非常良好的清洗劑。 同時在晶片製造、高能雷射方面獲得到了廣大的運用。 產品聯絡人吳逸民崇越科技股份有限公司資深經理高材營一部TEL: (03)564-2132 ext.3315dino.wu@topco-global.com其他相關產品TCSPDMATDCS10ppm Xenon/3.5% Argon/Balance Neon1.25% Kr/Ne1% SiH4(6N)/H2(6N)